技術・ソリューション
インダストリアルクリーンルーム(ICR)
工業製品の製造工程で用いられるインダストリアルクリーンルーム(ICR)は主に空気中の浮遊微粒子が管理対象となる。半導体製造工程はパターンの微細化が進み、制御対象となる微粒子の粒径は0.1μm以下となる場合もあります。さらに製造環境に必要な温湿度、室圧、気流、ケミカルガス成分なども制御されたクリーン空間が求められています。
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工業製品の製造工程で用いられるインダストリアルクリーンルーム(ICR)は主に空気中の浮遊微粒子が管理対象となる。半導体製造工程はパターンの微細化が進み、制御対象となる微粒子の粒径は0.1μm以下となる場合もあります。さらに製造環境に必要な温湿度、室圧、気流、ケミカルガス成分なども制御されたクリーン空間が求められています。