技術・ソリューション
インダストリアルクリーンルーム(ICR)
工業製品の製造工程で用いられるインダストリアルクリーンルーム(ICR)は主に空気中の浮遊微粒子が管理対象となる。半導体製造工程はパターンの微細化が進み、制御対象となる微粒子の粒径は0.1μm以下となる場合もあります。さらに製造環境に必要な温湿度、室圧、気流、ケミカルガス成分なども制御されたクリーン空間が求められています。
産業別清浄度例
| インダストリアルクリーンルーム | 清浄度（ISOクラス） | |||||||
| 1・2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | ||
| 半導体前半工程 | ミニエン内部 | |||||||
| 製造室内 | ||||||||
| シリコン単結品インゴット | ||||||||
| フォトマスク | ||||||||
| フラットパネルディスブレイ | ||||||||
| プリント基板材料、配線 | ||||||||
| LED | ||||||||
| 光ファイパ | ||||||||
| 太陽電池 | ||||||||
| リチウムイオン電池 | ||||||||
| 精密部品、測定器 | ||||||||
工業用クリーンシステム基本プラン実施例
| 基本形 | 特長と実用清浄度 | |
|---|---|---|
| A |  |
①非一方向流方式
（Nonunidirectional airflow Type） ②クラス1,000〜100,000 （換気回数約15〜60回／H) ③最も普及的な方式。 極めて応用範囲の広いシステム。 |
| B |  |
①一方向流方式 (Unidirectional airflow Type) ②クラス1〜100 （風速0.15〜0.35m/sec) ③ダウンフローにより全域にわたり 高清浄度を維持。 |
| C |  |
①クリーントンネル方式 （Clean tunnel Type） ②クラス1〜1,000 （風速0.1〜0.35m/sec） ③ターミナルエアー循環により 作業部を超清浄度に維持。 |
| D |  |
①ファンフィルタユニット方式 （Fanfilter unit Type） ②クラス1〜10,000 （風速0.15〜0.35m/sec) ③単一方向流 ※必要に応じてFFU の個体を増減でき、 清浄度のグレード対応が容易。 |
| E |  |
① FOUP方式 （Front opening unitied Pod） ②クラス1〜10,000 （風速0.15〜0.35m/sec) ③主要部一方向流 その他非一方向流 |
0.1μｍ（0.05μｍ）対象クラス1の場合は（※1）MF+HEPA（※2）ULPAとする。
0.5μｍ（0.3μｍ）クラス1の場合は（※1）MF（※1）HEPAまたはULPAとする。
- PF
プレフィルタ 
- MF
中性能フィルタ 
- HEPA
HEPAフィルタ 
- ULPA
ULPAフィルタ 
- ケミカルフィルタ
- 冷水コイル（温水）
- 送風機
