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技術紹介

超純水製造技術

半導体デバイスにおける有害物質除去への要求は、集積度の向上とともにますます厳しくなっています。
超純水中の微粒子、イオン、生菌、有機物、シリカ、溶存酸素等はデバイスのパターン欠陥やライフタイムの低下、あるいは有害物質として各種の電気特性の変化や酸化膜の形成に悪影響をあたえます。超LSI用の超純水設備では、これら水中の有害物質を極限まで除去する必要があります。
また、注射薬などの医薬品製造の分野において、超純水製造はパイロジェンフリーの面からも欠かせない技術となっています。
テクノ菱和では、豊富なクリーンルーム施工実績のもとにトータルクリーンシステムの一環として超純水製造システムの計画・設計・施工・メンテナンスを行っています。

超LSI製造工場用超純水の要求水質

超LSI製造工場用超純水の要求水質

超純水製造装置

超純水製造装置

中規模(2t/h〜20t/h)超純水製造システムフロー 実施例

中規模(2t/h〜20t/h)超純水製造システムフロー 実施例

大規模(20t/h〜)超純水製造システムフロー 実施例

大規模(20t/h〜)超純水製造システムフロー 実施例

施工実績

  • MSD妻沼工場
  • ヤマハ豊岡工場
  • 矢崎計器天竜工場
  • 双葉電子工業商品開発センター

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