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技術紹介

ケミカルクリーン技術

半導体工場やフラットパネルディスプレイ工場における環境制御技術は、デバイスの高集積化・微細化にともなって発展してきました。近年では、クリーンルーム内の制御対象は、微粒子に留まらず、ケミカルガス成分にまで拡大してきました。
テクノ菱和では、化学汚染に関して様々な実測を伴う調査・実験を行い、化学汚染物質の種類とその影響、発生源、管理濃度などについて研究を行っています。これらの研究をもとに化学汚染物質の発生防止技術や除去技術に関し、たゆみない研究開発を行っています。
内部循環空気に対しては、用途に見合った各種ケミカルガスフィルタを組合わせ、ケミカルガス濃度を必要なレベルまで低減します。
取り入れ外気に対しては、空気中の水溶性ガス成分を水に吸収させるケミカルガス対応湿式空調機(UCASS® :Ultra Clean Air Supply System)を開発しました。破過寿命のある乾式ケミカルフィルタと異なり、持続した除去性能が得られ、ランニングコストの低減を図ることができます。

ケミカルガス対応湿式空調機

ケミカルガス対応湿式空調機(UCASS®:ユーキャス)

化学汚染物質の種類とデバイスへの影響例

化学汚染物質の種類とデバイスへの影響例

ケミカルフィルタ設置 実施例

ケミカルフィルタ設置 実施例

ケミカルガス対応湿式空調機(UCASS® :ユーキャス)

ケミカルガス対応湿式空調機

施工実績

  • シャープ
  • ヤマハ
  • 日本テキサスインスツルメンツ
  • SUMCO
  • 東京応化工業

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